- Integrierte Beschichtungssysteme
- Kammern zur Pulsed Laser Deposition (PLD)
- Reaktive Molekularstrahlepitaxie-Systeme
- dc / rf Sputtersystem mit Gaspulsmöglichkeit
- Dünnschicht-Röntgendiffraktometrie
- Hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop
- Integriertes Oberflächenanalyse und Präparationssystem DAISY-MAT
- Photoelektronenspektroskopie (XPS / UPS)
- Magnetron Sputtern (Oxide und Metalle)
- Atomic layer deposition (Oxide)
- Elektrische Messtechnik
- Strom-Spannungs Kennlinien
- Leitfähigkeit und Hall-Effekt
- Impedanzanalysator (HP 4195A)
- Rasterkraftmikroskop (Asylum)
- Werkstoffsynthese disperser Feststoffe
- Schlenk- und Gloveboxtechnik
- Horizontale und vertikale GERO-Öfen mit PID-Steuerung und Gasdurchflussregelung
- Autoklaven für hydro- und ammonothermale Synthese
- Charakterisierung
- Mikro-Raman / FT-IR Spektrometer LabRAM HR800
- Einfachreflexions-ATR-Einheit für die FT-IR-Spektroskopie (IR-ATR)
- Synthese nichtmetallisch-anorganische Werkstoffe
- Pulverlabor inkl. Mühlen und Öfen zum Kalzinieren und Sintern von oxidischen Pulvern
- Elektrische Messtechnik
- aixPES System zur Messung der elektrischen und mechanischen
Groß- und Kleinsignalhysterese
- Novocontrol (Permittivitätsmessungen im Temperaturbereich von
-160 °C bis 400 °C, bei Frequenzen zwischen 3µHz und 40 MHz)
- Oberflächen- und Bulkanalyse
- Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
- Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA)
- Optische Emissionsspektrometrie mittels induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-OES)
- Schichtherstellung
- Spin-Coater
- Dip-Coater
- Sputter-Coater
- Messapparaturen zur Polung von elektroaktiven Polymeren und deren Charakterisierung
- Modellierung
- High-Performance Computer mit 800 CPU-Kernen für Elektronenstrukturrechnungen, Molekulardynamik und Monte-Carlo-Simulationen
|
Pulsed Laser Deposition
Dünnschicht-Röntgendiffraktometrie
DAISY-MAT
Mikro-Raman / FT-IR Spektrometer
Sekundärionen-Massenspektrometrie
Charakterisierung elektroaktivePolymere
|
